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首頁 > 產品中心 > CIF材料表面處理儀器 > CIF等離子清洗機 > CFE16CIF新一代Flash-Evac系列閃蒸成膜儀

CIF新一代Flash-Evac系列閃蒸成膜儀

簡要描述:CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發誘導成膜"原理研發生產的*薄膜制備設備,通過真空環境加速溶劑蒸發,驅動溶質(如有機小分子、聚合物、金屬鹵化物等)快速自組裝形成均勻納米薄膜。設備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優勢,廣泛應用于鈣鈦礦太陽能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領域。

  • 產品型號:CFE16
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-10-30
  • 訪  問  量:145

詳細介紹

品牌CIF價格區間面議
產地類別國產應用領域環保,生物產業,制藥/生物制藥,綜合

CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發誘導成膜"原理研發生產的*薄膜制備設備,通過真空環境加速溶劑蒸發,驅動溶質(如有機小分子、聚合物、金屬鹵化物等)快速自組裝形成均勻納米薄膜。設備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優勢,廣泛應用于鈣鈦礦太陽能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領域。

核心特點

u 智能集成控制:7英寸彩色觸控屏,支持中英文界面,實時監測與調節工藝參數,可存儲20組配方,工藝全程可追溯。

u 雙模式靈活操作:集成PLC控制系統,支持手動/自動一鍵切換,適應多樣研發與量產場景。

u 高質量成膜性能:真空環境促進快速溶劑揮發與溶質有序排列,形成致密均勻、低缺陷的高質量薄膜。

u 氣體與環境控制:內置質量流量計(0–500 sccm),支持惰性氣體保護與HEPA過濾,有效防污,滿足高標準潔凈工藝需求。

u 廣泛兼容與高擴展性:支持多種基底(硅片/玻璃/ITO等)和功能層(電子/空穴傳輸層等)沉積,優化器件性能與穩定性。可選集成加熱臺(RT–200°C)。

u 工藝均勻性:調控溫度、真空度與揮發速率,實現大面積均勻成膜,解決多層器件互溶問題。

u 穩定可靠運行:設備結構穩固,可長時間連續工作,保障工藝一致性與重復性。



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